| 機械サイズ（WxLxH） mm | 2127 X 1610 X 1058 |
|---|---|
| イメージ投射 システム（チャネル） | 64CH/48CH/32CHの分離した830nm半導体レーザー |
| 効率（版/時間） | 28pph/22pph/16pph、1030mm x 800mm、2400dpi |
| 中型 | 肯定的な熱CTPの版 |
| 版の厚さ | 0.15mmから0.30mm |
| イメージの半導体レーザー | 64CH、48CH、32CH |
|---|---|
| 決断 | 2400dpi、任意1200dpi |
| 出力速度 | 22pph |
| Max.Plateのサイズ | 1163*940mm |
| 版のタイプ | 405nm肯定的なUV-CTPの版か高く敏感なPSの版 |
| モデル | 上昇温暖気流800のシリーズ |
|---|---|
| 速度 | 16/22/28のpph |
| 最高。イメージ投射サイズ | 1163mm*940mm |
| Min. Imagingサイズ | 400mm*300mm |
| 機械次元 | 2320mm*1080mm*960mm |
| レーザー チャネル | 32CH、48CH、64CH |
|---|---|
| 出力速度 | 16pph、22pph、28pph |
| Max.Plateのサイズ | 800X690 （mm） |
| 条件 | 新しいですか使用された利用できる |
| 決断 | 2400dpi、任意1200dpi |
| 条件 | 新しい |
|---|---|
| イメージの半導体レーザー | 64,48,32CH |
| 出力速度 | 1時間あたりの28の版 |
| Max.Plateのサイズ | 1163*940mm |
| 版の厚さ | 0.15-0.40mm |
| 製品名 | CTPプレートプロセッサ |
|---|---|
| プレート サイズ | 最大幅: 1500mm 最短長: 300mm |
| プレートの厚さ | 0.15-0.4mm |
| 成長容量 | 78L |
| 処理速度 | 速度調節可能な（10から60秒） 400-2400 mm/minute |
| レーザー チャネル | 128CH/256CH |
|---|---|
| 出力速度 | 18PPH |
| Max.Plateのサイズ | 1680×1350ミリ |
| 決議 | 2400dpiまたは1200dpiオプション |
| プレートの積載と卸載 | オートマティック |
| イメージ投射 システム | 830nm上昇温暖気流 |
|---|---|
| 出力速度 | 16pph |
| Max.Plateのサイズ | 1470X1180 （mm） |
| 決断 | 任意2400dpiか1200dpi |
| レーザー チャネル | 64CH |
