| プレート サイズ | 最高。800mm x 660mm、Min. 400mm x 300mm |
|---|---|
| 露出するサイズ | 最高。800mm x 646mm、Min. 260mm x 284mm |
| 決議 | 2400dpi |
| メディアタイプ | 肯定的な830nm熱CTPの版 |
| 画像システム | 48チャネル;32チャネル;24チャネル |
| メディアタイプ | 熱CTPの版 |
|---|---|
| 画像システム | 64CH |
| 全域で | 16の版/時間 |
| 決議 | 2400dpi |
| プレートの大きさ | 最大1470mm × 1180mm 最低300mm × 400mm |
| イメージ投射 システム | 64チャンネル |
|---|---|
| 効率 | 1470mm x1180mm /2400dpi:16の版/時間 |
| 反復性 | ±5μm （4回の間またはそれ以上に23℃の温度および60%の湿気の同じ版の連続的な露出） |
| 電源 | 単一フェーズ:220V-240Vのパワー消費量（ピーク値）:5.5KW |
| 版のサイズ | Max.1470mm x1180mm;Min. 300mm x 400mm |
| 機械サイズ（WxLxH） mm | 2127 X 1610 X 1058 |
|---|---|
| イメージ投射 システム（チャネル） | 64CH/48CH/32CHの分離した830nm半導体レーザー |
| 効率（版/時間） | 28pph/22pph/16pph、1030mm x 800mm、2400dpi |
| 中型 | 肯定的な熱CTPの版 |
| 版の厚さ | 0.15mmから0.30mm |
| レーザー波長 | 830nm |
|---|---|
| 画像システム | 256 ディオード |
| トランスプット | 35/45/55 pph お客様の設定に応じて |
| マックス プレートサイズ | 1130mm*920mm |
| プレートの最小サイズ | 510mm*400mm |
| レーザー波長 | 830nm |
|---|---|
| 画像システム | 256 ディオード |
| トランスプット | 35/45/55 pph お客様の設定に応じて |
| 最大プレートサイズ | 1130mm*920mm |
| プレートの最小サイズ | 510mm*400mm |
| レーザー波長 | 830nm |
|---|---|
| 画像システム | 256 ディオード |
| トランスプット | 35/45/55 pph お客様の設定に応じて |
| 最大プレートサイズ | 1130mm*920mm |
| プレートの最小サイズ | 510mm*400mm |
| レーザー チャネル | 16チャネル;32チャネル |
|---|---|
| 出力速度 | 1.25 mの² /h;2.5 mの² /h |
| 最高。幅 | 800mm x 660mm |
| レーザーパワー | 高い発電の半導体の半導体レーザー |
| プレートの種類 | デジタルリリエールフフレックスプレート (水洗) デジタルフレックスプレート (水洗) デジタルフレックスプレート (溶剤洗) 鋼ベースのデジタルプレート (水/アルコール洗える) |
| 製品名 | コンピュータからフィルムレーザー画像セット CTF |
|---|---|
| フィルムの寸法 | 940mm/812mm×660mm-508mm |
| スキャン解像度 | 1500dpi~-4000dpi (オプション) |
| 走査方式 | 外部ドラム,高速でブロードバンドレーザースキャン |
| 動作モード | フィルムプロセッサー付き,ダークルームなし,完全自動,60mロールフィルム |
| Machine Type | UV-CTP Plate Machine |
|---|---|
| Media Type | Positive UV-CTP Plate, High-Sensitive PS Plate |
| Imaging System | 64CH, 48CH, 32CH, Discrete 400-410nm Laser Diode |
| Throughput | 28pph, 22pph, 16pph, 1030mm X 800mm, 2400dpi |
| Repeatability | ± 5 μm(Continuous exposing for 4 times or above on the same plate with a temperature of 23℃ and humidity of 60%) |
