| 分類 | CTPマシン |
|---|---|
| メディアの種類 | 肯定的な熱CTPの版 |
| 機械のサイズ (WxLxH) mm | 2127 X 1610 X 1058 |
| イメージ投射 システム（チャネル） | 64CH/48CH/32CHの分離した830nm半導体レーザー |
| 効率（版/時間） | 28pph/22pph/16pph、1030mm x 800mm、2400dpi |
| マシンタイプ | 紫外線CTP機械 |
|---|---|
| イメージングシステム | 64CH、48CH、32CHの分離した400-410nm半導体レーザー |
| スループット | 28PPH、22PPH、16PPH、1030mm×800mm、2400dpi |
| 解決 | 2400dpi （選択:1200dpi） |
| 板厚 | 0.15mmから0.30mm |
| マシンタイプ | CTCP機械 |
|---|---|
| イメージングシステム | 64CH;48CH;32CH |
| 中（版/時間） | 28;22;16 |
| 決議 | 2400dpi |
| プレートサイズ | 最高。1163mm x 940mm、Min. 400mm x 300mm |
| マシンタイプ | CTPマシン |
|---|---|
| 決議 | 2400dpi （選択:1200dpi） |
| プレート サイズ | 最高。1163mm x 940mm、Min. 300mm x 400mm |
| イメージングシステム | 64CH、48CH、32CH |
| 全体を通して | 28pph, 22pph, 16pph, 1030mm*800mm 2400dpi |
| 分類 | 紫外線CTP機械 |
|---|---|
| 決議 | 2400dpi |
| プレート サイズ | 最高。1163mm x 940mm、Min. 400mm x 300mm |
| イメージングシステム | 64CH;48CH;32CH |
| 効率（版/時間） | 28;22;16、1030mm x 800mm、2400dpi |
| マシンタイプ | CTCP機械 |
|---|---|
| プレート サイズ | 最高。1163mm x 940mm、Min. 400mm x 300mm |
| イメージングシステム | 64CH;4CH;32CH |
| 中（版/時間） | 28;22;16の分離した405nm半導体レーザー |
| 決議 | 2400dpi |
| メディアの種類 | 熱CTPの版 |
|---|---|
| イメージングシステム | 64CH |
| 全体を通して | 16の版/時間 |
| 解決 | 2400dpi |
| プレートサイズ | 最大1470mm × 1180mm 最低300mm × 400mm |
| マシンタイプ | CTCP機械 |
|---|---|
| イメージングシステム | 128チャネル、分離した400-410nm半導体レーザー |
| スループット | 45PPH、1030mm x 800mm、2400dpi |
| プレート サイズ | 最高。1163mm x 940mm、Min. 300mm x 400mm |
| メディアの種類 | 肯定的なUV-CTPの版、高に敏感なPSの版 |
| Machine Type | UV-CTP plate machine |
|---|---|
| Media Type | Positive UV-CTP plate, high-sensitive PS plate |
| Imaging System | 64CH, 48CH, 32CH, Discrete 400-410nm laser diode |
| Throughput | 28pph, 22pph, 16pph, 1030mm × 800mm, 2400dpi |
| Repeatability | ± 5 μm(Continuous exposing for 4 times or above on the same plate with a temperature of 23℃ and humidity of 60%) |
| レーザー波長 | 830nm |
|---|---|
| イメージングシステム | 256 ディオード |
| スループット | 35/45/55 pph お客様の設定に応じて |
| 最大プレートサイズ | 1130mm*920mm |
| プレートの最小サイズ | 510mm*400mm |
