| 操業長さ | unbaked 200,000の印象;unbaked紫外線インクが付いている70,000の印象;1,000,000印象は焼けた |
|---|---|
| 露出エネルギー | 50-65uj/cmの² （版のセッターおよび成長の条件に基づく） |
| スペクトル感度 | 405 nm |
| 決断 | 1-99%の@ 200のLPI及び20 uFM |
| 成長の時間 | 20±3秒 |
| 機械の種類 | 紫外線CTP機械 |
|---|---|
| 画像システム | 64CH、48CH、32CHの分離した400-410nm半導体レーザー |
| トランスプット | 28PPH、22PPH、16PPH、1030mm x 800mm、2400dpi |
| 決議 | 2400dpi （選択:1200dpi） |
| プレートの厚さ | 0.15mmから0.30mm |
| 分類 | 紫外線CTP機械 |
|---|---|
| 露出方法 | 外部ドラム |
| 画像システム | 64CH;48CH;32CHの分離した405nm半導体レーザー |
| 中（版/時間） | 28;22;16、1030mm x 800mm、2400dpi |
| 決議 | 2400dpi |
| プレートの種類 | CTCPの版 |
|---|---|
| 処理速度 | 0.8-1.2メートル/分 |
| 走行期間 | Unbaked:80,000から100,000の印象;焼かれる:100,000の印象に |
| 版のセッター | Luscher、Basysprint、Cron、EcooGraphix |
| 露出エネルギー | 50-70 mj/cmの² |
| 処理速度 | 0.8-1.2メートル/分 |
|---|---|
| スペクトル感度 | 400-410nm |
| 操業の長さ | Unbaked:焼ける80,000から100,000の印象:100,000の印象に |
| 版のセッター | Luscher、Basysprint、Cron、EcooGraphix |
| 露出エネルギー | 50-70 mj/cmの² |
| プレートの種類 | CTCPの版 |
|---|---|
| 処理速度 | 0.8-1.2メートル/分 |
| 走行期間 | Unbaked:80,000から100,000の印象;焼かれる:100,000の印象に |
| 版のセッター | Luscher、Basysprint、Cron、EcooGraphix |
| 露出エネルギー | 50-70 mj/cmの² |
| プレートの種類 | CTCPの版 |
|---|---|
| 処理速度 | 0.8-1.2メートル/分 |
| 走行期間 | Unbaked:80,000から100,000の印象;焼かれる:100,000の印象に |
| 版のセッター | Luscher、Basysprint、Cron、EcooGraphix |
| 露出エネルギー | 50-70 mj/cmの² |
| 機械の種類 | CTCP機械 |
|---|---|
| 画像システム | 128チャネル、分離した400-410nm半導体レーザー |
| トランスプット | 45PPH、1030mm x 800mm、2400dpi |
| プレート サイズ | 最高。1163mm x 940mm、Min. 300mm x 400mm |
| メディアタイプ | 肯定的なUV-CTPの版、高に敏感なPSの版 |
| イメージの半導体レーザー | 128CH |
|---|---|
| 決断 | 2400dpi、任意1200dpi |
| 出力速度 | 1時間あたりの44Plates |
| Max.Plateのサイズ | 1163*940mm |
| 版のタイプ | 405nm肯定的なCTCPの版か高く敏感なPSの版 |
| 機械の種類 | UV-CTPの版機械 |
|---|---|
| メディアタイプ | 肯定的なUV-CTPの版、高に敏感なPSの版 |
| 画像システム | 64CH、48CH、32CHの分離した400-410nm半導体レーザー |
| トランスプット | 28PPH、22PPH、16PPH、1030mm x 800mm、2400dpi |
| 繰り返し可能性 | ± 5 μm ((同じプレートで23°Cの温度と湿度60%で4回以上連続的に露出する) |
