機械の種類 | UV-CTPの版機械 |
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メディアタイプ | 肯定的なUV-CTPの版、高に敏感なPSの版 |
画像システム | 64CH、48CH、32CHの分離した400-410nm半導体レーザー |
トランスプット | 28PPH、22PPH、16PPH、1030mm x 800mm、2400dpi |
繰り返し可能性 | ± 5 μm ((同じプレートで23°Cの温度と湿度60%で4回以上連続的に露出する) |
機械の種類 | CTCP機械 |
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画像システム | 48チャネル、32チャネル、24チャネル |
効率(版/時間) | 28、22、16、800mm x 660mm、2400dpi |
プレート サイズ | 最高。800mm x 690mm、Min. 400mm x 300mm |
露出するサイズ | 最高。800mm x 646mm、Min. 260mm x 284mm |
機械の種類 | CTPマシン |
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プレート サイズ | 最高。800mm x 660mm、Min. 400mm x 300mm |
決議 | 2400dpi |
画像システム | 48チャネル;32チャネル;24チャネル |
効率(版/時間) | 28;22;16、800mm x 690mm、2400dpi |
機械の種類 | CTCP機械 |
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画像システム | 128チャネル、分離した400-410nm半導体レーザー |
トランスプット | 45PPH、1030mm x 800mm、2400dpi |
プレート サイズ | 最高。1163mm x 940mm、Min. 300mm x 400mm |
メディアタイプ | 肯定的なUV-CTPの版、高に敏感なPSの版 |
機械の種類 | UV-CTP機械 |
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プレート サイズ | 最大 1680mm × 1350mm 最低 650mm × 550mm |
決議 | 2400dpi |
画像システム | 128のチャネル、分離した400-410nm半導体レーザー |
トランスプット | 22 プレート/時間 1630mm x 1325mm/ 2400dpi |
分類 | CTPマシン |
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プレートの大きさ | 最大 1680mm × 1350mm 最低 650mm × 550mm |
プレートの厚さ | 0.15mmから0.30mmか0.27mmへの0.40mm (代わり) |
画像システム | 64のチャネル、分離した830nm半導体レーザー |
出力速度 | 14の版/時間、1630mm x 1325mm/2400dpi |
機械の種類 | CTPマシン |
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画像システム | 64のチャネル |
出力速度 | 16の版/時間 |
プレートの大きさ | 最大1470mm × 1180mm 最低300mm × 400mm |
決議 | 2400 dpi |
メディアタイプ | 熱CTPの版 |
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画像システム | 64CH |
全域で | 16の版/時間 |
決議 | 2400dpi |
プレートの大きさ | 最大1470mm × 1180mm 最低300mm × 400mm |
プレート サイズ | 最高。800mm x 660mm、Min. 400mm x 300mm |
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露出するサイズ | 最高。800mm x 646mm、Min. 260mm x 284mm |
決議 | 2400dpi |
メディアタイプ | 肯定的な830nm熱CTPの版 |
画像システム | 48チャネル;32チャネル;24チャネル |
画像システム | 48チャネル、32チャネル、24チャネル |
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中(版/時間) | 28、22、16、800mm x 690mm、2400dpi |
決議 | 2400dpi |
インターフェース | USB 2 について0 |
プレートの厚さ | 0.15mmから0.30mm |