| 機械の種類 | CTPマシン |
|---|---|
| 画像システム | 16CH |
| 全域で | 1.25のSqm/時間 |
| プレートの厚さ | 0.14mmから1.7mm |
| 最高。幅 | 430mm x 330mm |
| カセット タイプ | 多重カセット |
|---|---|
| 版の送り速度 | 75プレート/時間 |
| 最大プレートサイズ | 1160mm*940mm |
| プレートの最小サイズ | 510mm*400nn |
| 版の負荷の方法 | 手動でスタックプレートはカセットです |
| 製品名 | CTPの版プロセッサ |
|---|---|
| プレートの厚さ | 0.15-0.4mm |
| プレート サイズ | Max.1130mm X 920mm Min.400mm X 300mm |
| 処理速度 | 速度調節可能な（10から60秒） 400-2400 mm/minute |
| 成長容量 | 46/58/70/78L |
| Imaging System | 24/32/48-channel |
|---|---|
| Throughput | 800mm × 660mm, 2400dpi: 28 plates/hour; 22 plates/hour; 16 plates/hour |
| Repeatability | ±5µm (Continuous exposing for four times or above on the same plate with a temperature of 23℃ and humidity of 60%) |
| Power Supply | Single-phase: 220AC, +6%, -10%, Power Consumption: 4KW |
| Plate Size | Max. 800mm × 690mm, Min. 400mm × 300mm |
| 製品名 | CTPの版プロセッサ |
|---|---|
| プレートの厚さ | 0.15-0.4mm |
| プレート サイズ | Max.1130mm X 920mm Min.400mm X 300mm |
| 処理速度 | 速度調節可能な（10から60秒） 400-2400 mm/minute |
| 成長容量 | 46/58/70/78L |
| カセット タイプ | 多重カセット |
|---|---|
| 版の送り速度 | 75プレート/時間 |
| 最大プレートサイズ | 1160mm*940mm |
| プレートの最小サイズ | 510mm*400nn |
| 版の負荷の方法 | 手動でスタックプレートはカセットです |
| 機械の種類 | UV-CTP機械 |
|---|---|
| プレート サイズ | 最大 1680mm × 1350mm 最低 650mm × 550mm |
| 決議 | 2400dpi |
| 画像システム | 128のチャネル、分離した400-410nm半導体レーザー |
| トランスプット | 22 プレート/時間 1630mm x 1325mm/ 2400dpi |
| 画像システム | 48チャネル;32チャネル;24チャネル |
|---|---|
| トランスプット | 800mmの× 660mm、2400dpi:28の版/時間;22の版/時間;16の版/時間 |
| 繰り返し可能性 | ±5µm （4回の間またはそれ以上に23℃の温度および60%の湿気の同じ版の連続的な露出） |
| 電源 | 単相:220AC、+6%、-10%のパワー消費量:4KW |
| プレートの大きさ | 最大800mm × 690mm 最小400mm × 300mm |
| 機械の種類 | CTP機械 |
|---|---|
| 画像システム | 16CH |
| トランスプット | 1時間あたりの1.25のSqm |
| 最高。幅 | 最高。430mm x 330mm |
| プレートの厚さ | 0.14mmから1.7mm |
| Product name | Computer to Plate Making Machine |
|---|---|
| Exposing Mothod | External Drum |
| Plate Sizes | Max.800mm x 660mm Min. 400mm x 300mm |
| Plate Thickness | 0.15mm to 0.30mm |
| Resolution | 2400dpi |
